EMC/China Shanghai 2008.11.18-20
展馆地址：上海光大会展中心（漕宝路78号）
戈尔展位：E106

戈尔技术讲座
时间：13:10-13:55 2008.11.19
题目：创新可靠的EMI屏蔽及接地解决方案

演讲大纲：
1． 超薄，多腔，更多设计自由，超常EMI屏蔽性能snapSHOT?板级屏蔽罩技术分析及应用案例
2． 高可靠性能，柔软，更多设计自由Gore专利设计SMT电磁屏蔽垫片技术分析及应用案例
3． 高整体导电（X-Y-Z轴），多种厚度、柔软度，高压缩比GORE-SHIELD?屏蔽垫技术分析及应用案例
4． 新型导热材料及应用案例

（责编：雪竹）